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供應 環(huán)保光亮堿性鍍鋅添加劑 /Zn-218  |
規(guī) 格： |
25kg/桶 |
價 格： |
28/元/公斤 |
數(shù) 量： |
100000 公斤 |
交貨地： |
揭陽 |
發(fā)布時間： |
2019-12-11 |
有效期： |
3天 |
備 注： |
Zn-218無氰堿性鍍鋅工藝
特征 優(yōu)點
·延展性優(yōu)越 → 即使鍍厚鍍層也無剝落、起泡現(xiàn)象
·均鍍能力及覆蓋能力佳 →此工藝低區(qū)和高區(qū)的鍍層厚度比率為1：1-1.5
·操作的電流密度范圍廣 → 高、低電流密度均可鍍出形狀各異的鍍件
·耐高溫操作 → 操作溫度達35℃時，光亮度佳。
·工藝 → 適用于滾鍍和掛鍍。
開缸
標準 范圍
鋅 → 12克/升 8 - 15克/升
NaOH → 120克/升 100 - 170克/升
NaOH：鋅 → 12：1 10~14：1
Zn-218 A開缸劑 → 12 毫升/升 10- 15毫升/升
Zn-218 B光亮劑 → 1.5毫升/升 1– 2毫升/升
Zn-218 C除雜劑 → 2毫升/升 1.5 - 2.5毫升/升
Zn-218 D調(diào)整劑 →5毫升/升 5- 10毫升/升
操作條件
溫度 → 25℃ 20 - 30℃
電流密度 → 0.5~1.0安/分米2 0.2~4.0安/分米2
陰極：陽極 → 1:1.5-2.0 1:1.5-2.0
設備：
缸： 聚丙烯缸或有聚丙烯內(nèi)襯的不銹鋼缸。
攪拌：建議陰極攪拌。
過濾： 建議連續(xù)過濾式，不用濾紙過濾。
冷卻：高電流負荷時需要，取決于電解液的量。
排氣：可以選擇。
鍍液配制：
1.在鍍槽中加入1/3純水。
2.加入NaOH，攪拌至溶解。溶液變熱。
3.把氧化鋅加入熱的上述溶液中，強烈攪拌至溶解。
4.加入水至規(guī)定體積
5.如基礎化學品質(zhì)量差，推薦使用鋅粉和活性碳處理
6.低電流電解8 ~ 10小時。
7.加入所需量的開缸劑、光亮劑，除雜劑，調(diào)整劑。
補償控制：
Zn-218 A開缸劑 → 150 - 250毫升/千安培時
Zn-218 B光亮劑 → 80 - 150毫升/千安培時
Zn-218 C除雜劑 → 30 - 50毫升/千安培時(如水質(zhì)很差)
Zn-218 D調(diào)整劑 → 實際消耗量取決于水質(zhì)和原材料的純度
建議電鍍前使用含25 - 45克/升NaOH的堿性浸液中和溶液，清潔金屬表面。
須作溫度控制，有時須使用冷卻設備維持液溫。可使用鋼、鈦鍍管或特弗綸管進行冷水循環(huán)冷卻。
使用99.99%的鋅陽極，可用鋼籃盛放鋅球。陽極面積的分布及調(diào)整是控制鋅金屬濃度的重要因素
維護：
1、鍍液耐溫性高，但為了獲得更佳的低區(qū)性能及節(jié)省光亮劑，建議在標準溫度下操作，我們建議控制溫度在23 - 28°C操作。
2、堿性無氰鍍液的鍍液成分關鍵是控制NaOH與鋅的比例。經(jīng)常分析鍍液，NaOH與鋅的比例控制在10-14:1。比例高時，深鍍能力、低區(qū)光亮度好，但高區(qū)沉積速度較慢，即分散能力佳。
3、Zn-218 A開缸劑： 為走位劑，特別能提升高電流區(qū)光亮度，也會提高鍍層分散能力，使高電流區(qū)沉積速度降低，低電流區(qū)沉積速度提高，還能降低鍍層內(nèi)應力。若嚴重過量時影響低電流區(qū)光亮度。
4、Zn-218 B光亮劑 ：使鍍層達到全面光亮。特別能提高低電流區(qū)光亮度，也是低電流區(qū)走位劑。
5、 Zn-218 C除雜劑：能去除鍍液中的銅、鉛、鐵、錫、鉻等重金屬，同時還能吸附有機雜質(zhì)。視鍍液狀況而添加。
6、 Zn-218 D調(diào)整劑 ：能提升高電流區(qū)與低電流區(qū)的電流范圍。主要作用：（1）防止高區(qū)燒焦，避免在高電流作業(yè)下鍍層脫皮與脆性。（2）去除鍍液中的雜質(zhì)，包括金屬雜質(zhì)，消除鍍層發(fā)霧，使低區(qū)更加光亮，同時也擴大了低電流區(qū)光亮度。（3）去除鈣、鎂雜質(zhì)，起到軟化硬水的作用。
故障排除
問題 可能原因 措施
鍍層起泡 Zn-218 B光亮劑含量高 電解，鋅粉或碳處理
清潔不足 前除理不干凈，清潔干凈
鍍液不當 分析并校正鍍液
有機污染 過氧化物和/或碳處理并過濾
鉻污染 電解或通過赫爾槽測試確定添加亞硫酸鈉的量
金屬污染 鋅粉處理
光亮劑轉換不兼容 轉換前作碳處理或鋅粉處理
低電流密度區(qū)光澤不佳或發(fā)黑 鋅金屬含量高 沖淡鍍液
光亮劑含量低 適量加入Zn-218 B光亮劑
操作溫度過高 冷卻鍍液
金屬污染 加入 Zn-218 C除雜劑，低電流密度電解，鋅粉處理
NaOH含量低 濃度提高至110克/升以上
高電流密度區(qū)出現(xiàn)焦化或無光澤鍍層 開缸劑含量低 赫爾槽測試，添加Zn-218 A開缸劑
液溫低 提高操作溫度
金屬含量低 濃度提高至6克/升以上
電流密度過高 調(diào)整電流密度
光亮度不足 光亮劑含量低 加入適量Zn-218 A開缸劑，Zn-218 B光亮劑
鍍層出現(xiàn)霧 光亮劑含量低 赫爾槽測試，適量加入Zn-218 A和B
鋅離子含量高 分析并稀釋鍍液
硬水污染 加入凈化劑Zn-218 C
鐵污染 電解或作鋅粉處理
鋅金屬含量持續(xù)下降 陽極面積不夠 增加陽極面積
NaOH含量低 分析、增加濃度
陽極極化 增加陽極面積
鋅金屬含量持續(xù)上升 陽極面積過大 減少陽極面積
鍍層污染，產(chǎn)生黑到灰色鍍層 錯誤添加鈉，硫化物或聚硫化物潔凈劑等 鋅粉處理
鍍層粗糙 鍍液中存在懸粒 換濾袋或濾芯，不宜用紙濾器。
陽極極化帶入微粒 增加陽極面積，過濾鍍液
光亮劑損耗過量 金屬含量高 分析、降低濃度
操作溫度高 溫度降至20 - 25℃
有機污染 雙氧水和/或碳處理
低電區(qū)灰暗 鉛污染（>ppm） 用1克/升的鋅粉電解液處理 |
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