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供應(yīng) 藍(lán)寶石CMP拋光液硅溶膠 /112926-00-8
規(guī)  格:
價(jià)  格:
9.5/元/公斤
數(shù)  量:
1000 噸
 交貨地:
發(fā)布時(shí)間:
2024-09-10
 有效期:
255天
備  注:
藍(lán)寶石晶體(α-A12O3)是一種耐高溫、耐磨損、抗腐蝕和透光波段寬的優(yōu)質(zhì)光功能材料,它具有與Ⅲ族氮化物相同的六方密堆積型,是由物理、機(jī)械和化學(xué)特性三者獨(dú)特組合的優(yōu)良材料。


在光通信領(lǐng)域,藍(lán)寶石晶體不僅用作短波長(zhǎng)有源器件,還用作偏振光的無(wú)源器件在微電子領(lǐng)域,藍(lán)寶石可以作為新一代半導(dǎo)體襯底SOI(絕緣層上)的襯底,由于藍(lán)寶石優(yōu)良的阻擋作用,能夠減小晶體管的電容效應(yīng),其運(yùn)算速度可變得更快,功耗變得更低。在光電子領(lǐng)域,藍(lán)寶石晶體是制造GaN發(fā)光二極管(LED)的首選襯底材料。在藍(lán)寶石襯底上生長(zhǎng)薄膜之前,首先要去除切片時(shí)產(chǎn)生的劃傷、凹坑、應(yīng)力區(qū)等,然后要降低表面粗糙度。表面的粗糙度越大,表面的懸掛鍵越多,越容易吸附其他雜質(zhì),并且與上面的薄膜有較差的晶格匹配。


傳統(tǒng)的純機(jī)械拋光是用拋光粉不斷地研磨被拋光材料的表面,容易產(chǎn)生較深的劃傷。而CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)是在化學(xué)作用的環(huán)境下,通過(guò)機(jī)械作用將化學(xué)反應(yīng)物去除掉,提高了材料的去除速率,同時(shí)也得到良好的表面形態(tài)。
結(jié)構(gòu)式:

聯(lián)系方法
 聯(lián)系人:
小顏
公  司:
江門(mén)市惠和永晟納米科技有限公司
地  址:
江門(mén)市鶴山沙坪街道鶴山堅(jiān)美園35號(hào)之十二
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